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內容簡介

《實用真空技術》主要內容包括：真空知識概論、真空密封、影響真空度的要素、真空係統、典型的薄膜生長方式。

作者簡介

郭方準，1970年生，理學博士（日本大阪市立大學）.迴國前任日本同步輻射光科學中心（SPring-8）研究員，現任大連交通大學教授、中國科學院大連化學物理研究所研究員。
主要榮譽：中國科學院百人計劃（2009）國傢韆人計劃（2010）中國僑聯特聘專傢（2011）遼寜省攀登學者（2012）
主要獲奬：第七屆錶麵界麵和納米技術國際會議青年科學傢奬（2003）日本文部科學大臣奬（2008）
主要著作：《Frontal Semiconductor Research》Nova Science Publishers， Inc.ISBN：1-60021-210-7.（USA 2006）.

內頁插圖

目錄

第1章 真空知識概論
1.1 什麼是真空
1.2 真空的發現和理論基礎
1.3 幾個重要的概念
1.4 真空技術的應用

第2章 真空密封
2.1 永久密封
2.2 非永久密封
2.3 真空法蘭
2.4 真空導入要素
2.5 波紋管

第3章 影響真空度的要素
3.1 真空檢漏
3.2 真空中的材料氣體放齣
3.3 真空材料的錶麵淨化和拋光
3.4 真空係統的排氣計算

第4章 真空係統
4.1 真空係統的構成
4.2 真空腔體
4.3 真空泵
4.4 真空計
4.5 真空閥門
4.6 各種運動導入器
4.7 配管連接元件

第5章 典型的薄膜生長方式
5.1 物理方式成膜（Physical Vapor Deposition:PVD）
5.2 化學方式成膜（Chemical Vapor Deposition:CVD）
附錄
參考文獻

精彩書摘

1.4 真空技術的應用
現代社會每個人都在享受著真空技術給我們帶來的便利。例如：暖壺能保溫的秘訣就在於瓶壁內有真空的空間，減少瞭熱傳導，以保持壺內溫度；熒光燈、街燈、汽車照明燈的內部也是真空狀態，否則就無法發光。電視、電腦顯示器等也離不開真空。眼鏡和攝像機、照相機鏡頭為瞭提高光的透過率，錶麵所鍍的光學薄膜也是應用瞭真空技術。
半導體産業離不開真空技術。生産半導體元件：（1）要在矽片上摻人相應的其他元素；（2）在生産集成電路時要形成復雜的金屬薄膜和絕緣膜；（3）要進行錶麵的刻蝕處理等復雜的工序。如果生産過程中的真空度不夠，錶麵上沾瞭灰塵或油滴之後會齣現嚴重的後果。集成電路中細綫的寬度是吸煙時吐齣的煙霧顆粒直徑的1/3，是一粒灰塵直徑的近萬分之一。對集成電路而言，哪怕落有一顆煙霧的顆粒，就好像大路上停瞭一架大型飛機一樣，使電子無法通過或造成短路。
新材料開發離不開真空。以分子束外延為代錶的薄膜生長技術是新材料開發的重要手段，薄膜材料放到蒸發源中之後被蒸發或升華，在超高真空環境中，薄膜材料的原子或分子可以長距離飛行，到達襯底成膜；而且由於殘留氣體少，襯底錶麵形成的薄膜純度高。
錶麵科學領域對真空度的要求極高。在極高真空的環境下，通過高溫退火或結閤離子濺射而獲得物質的清潔錶麵，這時的錶麵沒有吸附任何其他的分子或原子。利用掃描隧道電子顯微鏡等尖端的錶麵分析實驗手段，可以看到物質錶麵的原子排列和電子狀態。
……

前言/序言

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