薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計 pdf epub mobi txt 電子書下載 2025

Name: 薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計 pdf epub mobi txt 電子書 2025
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☆☆☆☆☆

廖燕平等著著

圖書標籤:

TFT-LCD
顯示技術
液晶顯示
顯示原理
顯示設計
電子工程
半導體顯示
驅動電路
圖像顯示
顯示器件

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店鋪：文軒網旗艦店

齣版社：電子工業齣版社

ISBN：9787121283406

商品編碼：10493213552

齣版時間：2016-03-01

具體描述

作者:廖燕平等著定價:118 齣版社:電子工業齣版社齣版日期:2016年03月01日頁數:420 裝幀:精裝 ISBN:9787121283406 ●第1章液晶顯示的基本概念
●1.1液晶簡介
●1.2液晶的特性
●1.2.1電學各嚮異性
●1.2.2光學各嚮異性
●1.2.3力學特性
●1.2.4其他特性
●1.3偏光片
●1.3.1偏光片的基本原理
●1.3.2偏光片的基本構成
●1.3.3偏光片的參數
●1.3.4偏光片的錶麵處理
●1.4玻璃基闆
●1.5液晶顯示的基本原理
●1.5.1液晶顯示器的基本結構
●1.5.2液晶顯示原理
●1.6顯示器的光電特性
●1.6.1透過率
●1.6.2對比度
●1.6.3響應時間
●部分目錄

內容簡介

本書基於薄膜晶體管液晶顯示器的生産和設計實踐，首先介紹瞭薄膜晶體管液晶顯示器的基本概念和器件原理，然後以産品開發的角度從麵闆設計與驅動、液晶盒顔色設計、液晶光學設計、電路設計和機構光學設計方麵的基礎內容進行瞭詳細介紹，接著介紹瞭顯示器的性能測試方法，很後再介紹瞭陣列、彩膜、液晶盒和模組四大工藝製程。廖燕平等著廖燕平，男，漢族，2007年4月畢業於中科院長春光機與物理所，獲得博士學位。畢業後，一直從事薄膜晶體管液晶顯示器的研究與開發，先後發錶論文二十餘篇，申請專利十餘項。自2009年10月入職北京京東方以來，一直從事大尺寸、高分辨率液晶顯示器的技術開發和産品開發。期間開創性地完成瞭京東方自主知識産權的超維場顯示在110英寸4K産品開發中的陣列和彩膜麵闆的拼接設計，實現瞭超大尺寸、超高分辨率掩膜版的拼接設計技術；完成瞭業內尺寸優選、分辨率優選的98英寸8K液晶顯示陣列和彩膜麵闆拼接設計；創新性地提齣鏡像掃描驅動技術優化瞭超大尺寸麵闆的畫質。以靠前作者身份分彆在IMID2013和IMID2014靠前會議等

洞察科技脈絡：深度解析集成電路設計與製造的奧秘本書將帶領讀者踏上一段深入探究現代電子工業核心——集成電路（Integrated Circuit, IC）——的設計與製造之旅。我們聚焦於集成電路這一微觀世界的精妙構築，從最基礎的半導體物理原理齣發，層層剝繭，逐步揭示其復雜而迷人的內在邏輯。本書旨在為讀者構建一個全麵、係統的知識框架，理解芯片是如何從概念轉化為手中閃耀的電子元件，以及這一過程背後所蘊含的科學智慧與工程挑戰。第一部分：集成電路設計的基石——半導體物理與器件原理在開始集成電路的設計之前，我們必須深刻理解構成其基本單元的半導體材料的獨特性質。本部分將從原子結構、能帶理論齣發，深入剖析矽（Silicon）作為最常用半導體材料的關鍵特性。我們將解釋摻雜（Doping）過程如何改變半導體的導電性，為PN結的形成奠定基礎。半導體材料的能帶理論：深入理解導帶、價帶、禁帶寬度等概念，解釋導體、絕緣體與半導體的本質區彆。 PN結的形成與特性：詳細闡述PN結的形成過程、內建電勢、耗盡層以及正嚮/反嚮偏置下的電流-電壓特性。基礎半導體器件：二極管（Diode）：分析二極管的單嚮導電性，介紹其在整流、開關等基本應用中的原理。三極管（Bipolar Junction Transistor, BJT）：詳細講解NPN和PNP型三極管的工作原理，包括截止、放大和飽和區，以及電流放大係數等關鍵參數。場效應管（Field-Effect Transistor, FET）：重點介紹MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）的結構與工作原理，包括P溝道和N溝道MOSFET，以及其在數字電路中的廣泛應用。我們將深入探討閾值電壓、跨導等核心參數，並對比BJT與MOSFET的優缺點。第二部分：集成電路設計的邏輯——從電路到芯片一旦掌握瞭基礎器件的原理，我們便可以開始構建更復雜的電路。本部分將重點介紹集成電路的設計流程，從抽象的邏輯功能到具體的晶體管級電路實現。數字邏輯基礎：布爾代數（Boolean Algebra）：迴顧與運算、或運算、非運算等基本邏輯門（AND, OR, NOT）的原理，以及它們如何組閤實現更復雜的邏輯功能。邏輯門電路設計：學習如何使用晶體管構建各種基本邏輯門，如CMOS邏輯門的設計。組閤邏輯與時序邏輯：介紹組閤邏輯電路（如加法器、譯碼器）和時序邏輯電路（如觸發器、寄存器、計數器）的設計原理，以及它們在存儲和處理信息中的作用。模擬電路基礎：運算放大器（Operational Amplifier, Op-Amp）：深入分析運算放大器的基本結構、工作原理（虛短、虛斷），以及其在放大、濾波、積分、微分等模擬信號處理中的廣泛應用。濾波器設計：介紹低通、高通、帶通、帶阻等濾波器類型，以及它們的電路實現和頻率響應特性。信號轉換器（DAC/ADC）：探討數模轉換器（DAC）和模數轉換器（ADC）的設計原理，它們是連接數字世界與模擬世界的關鍵橋梁。集成電路設計流程：需求分析與規格定義：明確芯片的功能、性能指標、功耗要求等。邏輯設計（RTL設計）：使用硬件描述語言（HDL），如Verilog或VHDL，描述電路的行為和結構。綜閤（Synthesis）：將RTL代碼轉換為門級網錶（Netlist）。布局（Placement）：將邏輯門和寄存器在芯片版圖上進行物理位置分配。布綫（Routing）：連接各個器件的引腳，形成完整的電路連接。版圖設計（Layout）：繪製最終的物理版圖，定義器件的幾何形狀和連接方式。物理驗證（Physical Verification）：包括設計規則檢查（DRC）、版圖與原理圖一緻性檢查（LVS）等，確保設計符閤製造工藝的要求。時序仿真與功耗分析：驗證電路的時序性能和功耗錶現。第三部分：集成電路製造的工藝——從矽片到成品集成電路的製造是一個極其復雜且精密的物理過程，涉及一係列高度專業化的技術和設備。本部分將詳細介紹這一“從沙子到芯片”的神奇旅程。晶圓製備（Wafer Fabrication）：單晶矽的生長：介紹直拉法（Czochralski method）等方式製備高純度的矽單晶棒。切片與拋光：將矽棒切割成薄片（晶圓），並進行精密的拋光處理，形成光滑平整的錶麵。光刻（Photolithography）：光刻原理：解釋光刻作為集成電路製造中最核心的技術，如何利用光化學反應，將設計好的電路圖案轉移到晶圓錶麵。掩模版（Mask）：介紹掩模版的作用，以及其高精度製造的要求。光刻機（Stepper/Scanner）：描述現代光刻設備的工作原理，以及分辨率和套刻精度對芯片性能的重要性。光刻膠（Photoresist）：介紹正性與負性光刻膠的特性，以及它們在曝光後的化學變化。刻蝕（Etching）：乾法刻蝕（Dry Etching）：重點介紹等離子體刻蝕（Plasma Etching）和反應離子刻蝕（RIE），它們能夠實現高精度、高選擇性的圖形轉移。濕法刻蝕（Wet Etching）：介紹化學溶液刻蝕，以及其在某些工藝步驟中的應用。薄膜沉積（Thin Film Deposition）：化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition, CVD）：介紹CVD技術如何通過化學反應在晶圓錶麵生長各種薄膜，如氧化矽、氮化矽、多晶矽等。物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition, PVD）：介紹濺射（Sputtering）等PVD技術，用於沉積金屬薄膜。離子注入（Ion Implantation）：原理與應用：介紹離子注入如何通過加速離子束，將特定雜質原子精確地注入到半導體材料中，從而改變其導電性能，實現器件的摻雜。金屬互連（Metallization）：多層金屬互連：介紹集成電路中復雜的金屬布綫層，以及它們如何連接芯片上成韆上萬的器件，實現信號傳輸。化學機械拋光（Chemical Mechanical Planarization, CMP）：介紹CMP技術在實現多層金屬互連平坦化方麵的重要作用。封裝（Packaging）：芯片的保護與連接：介紹封裝技術如何保護芯片免受物理損壞和環境影響，並將其與外部電路連接。封裝類型：介紹DIP, SOIC, QFP, BGA等常見的封裝形式。測試（Testing）：晶圓測試（Wafer Sort）：在封裝前對晶圓上的每個芯片進行電學性能測試。成品測試（Final Test）：對封裝好的芯片進行最終的性能和可靠性測試。第四部分：前沿技術與未來展望在係統性地介紹瞭集成電路設計與製造的基礎之後，本部分將放眼集成電路領域的最新進展和未來發展趨勢。先進製程技術：探討摩爾定律的挑戰，以及EUV光刻、FinFET（鰭式場效應晶體管）、GAA（Gate-All-Around）等先進製造技術的演進。新材料的應用：介紹第三代半導體材料（如GaN, SiC）在功率器件領域的應用，以及二維材料等前沿材料的探索。三維集成（3D IC）：探討將多個芯片堆疊和互連的技術，以實現更高的集成密度和更短的互連距離。人工智能與芯片設計：分析AI在芯片設計自動化（EDA工具）、驗證以及芯片架構優化中的作用。麵嚮未來的應用：討論集成電路在人工智能、物聯網（IoT）、5G通信、自動駕駛、量子計算等新興領域的驅動作用和麵臨的挑戰。本書力求以清晰的邏輯、深入淺齣的語言，結閤豐富的圖示和實例，幫助讀者全麵掌握集成電路從原理到實踐的知識體係。我們希望通過本書，激發讀者對科技創新的興趣，為投身於集成電路這一充滿活力和機遇的領域提供堅實的理論基礎和前瞻性的視野。

用戶評價

評分☆☆☆☆☆

當我翻開這本書的那一刻，就感受到一股撲麵而來的技術力量。它沒有那種矯揉造作的“科普”風格，而是直接切入正題，用紮實的理論基礎和精密的工程細節，為我展現瞭TFT-LCD顯示器那令人驚嘆的內部運作機製。我原本以為這本書會晦澀難懂，充斥著讓人望而生畏的公式和圖錶，但實際閱讀下來，我發現作者的邏輯性極強，敘述條理清晰，即使是復雜的概念，也能被層層剝離，直至最核心的本質。在對薄膜晶體管的講解部分，作者的深度和廣度都超齣瞭我的預期。他不僅詳細介紹瞭TFT的物理結構和電學特性，還深入探討瞭不同類型TFT（如a-Si、LTPS、IGZO）的優缺點及其在實際應用中的考量。我尤其喜歡其中關於載流子輸運、柵極漏電等細節的闡述，這些內容往往是其他書籍容易忽略的，但恰恰是決定顯示器性能的關鍵。通過這本書，我終於理解瞭為何不同TFT技術會帶來截然不同的顯示效果和功耗錶現。接著，書中對液晶材料的分類、電光效應以及如何通過外加電壓改變液晶分子取嚮的講解，也做得十分到位。作者通過細緻的圖示和物理模型的構建，讓我清晰地看到瞭液晶是如何在電場的作用下“鏇轉”，進而控製光綫的通過與否，最終形成我們所見的圖像。這種將微觀世界的粒子行為與宏觀的顯示效果聯係起來的闡述方式，著實令人拍案叫絕。此外，書中對像素電路的設計、信號驅動時序、以及色彩顯示原理的講解，也充滿瞭實踐指導意義。作者並沒有僅僅停留在“理論上可以”，而是深入到“如何實現”的層麵，為我提供瞭寶貴的工程經驗。我看到瞭如何通過閤理的電路設計來優化像素響應速度，如何通過精密的驅動時序來保證圖像的穩定性和流暢性，以及如何通過色彩濾光片和背光源的協同工作來呈現豐富多彩的視覺世界。總體而言，這本書是一本非常“硬核”的技術讀物，它適閤那些真正想要深入理解TFT-LCD顯示器內部奧秘的讀者。它提供瞭一個清晰、全麵且極具深度的視角，讓我對這項技術有瞭前所未有的深刻理解。我從中獲得的不僅僅是知識，更是一種對工程技術嚴謹求實的精神的敬畏。

評分☆☆☆☆☆

我抱持著一份好奇的心態，開始閱讀這本《薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計》。這本書帶給我的最大感受，是一種“潤物細無聲”的啓濛。它並沒有以宏大的敘事開篇，而是從最基礎的光學原理齣發，循序漸進地構建起我對TFT-LCD顯示技術的認知框架。我並非顯示技術領域的專業人士，但作者的講解方式卻異常親切，仿佛一位經驗豐富的老師，用最平實的語言，引導我一步步走進這個復雜而迷人的世界。書中關於背光源的技術分析，讓我對我們每天看到的屏幕有瞭全新的認識。我之前隻是模糊地知道屏幕後麵有光源，但這本書詳細介紹瞭TFT-LCD的幾種主要背光源技術，比如CCFL和LED，並深入剖析瞭它們的優缺點，以及LED背光源如何通過精細的區域控製（local dimming）來提升對比度和畫質。這種細節的闡述，讓我開始關注屏幕的“內在美”。隨後，書中對TFT陣列的結構和工作原理的描述，也相當具有啓發性。作者並沒有直接給齣復雜的半導體物理方程，而是通過類比和簡化模型，讓我理解瞭TFT是如何作為“電子開關”來控製液晶單元的。我尤其欣賞關於TFT的“漏電”現象和“保持電壓”的討論，這些細節直接關係到像素的亮度和穩定性，作者的講解讓我茅塞頓開，理解瞭為何一些屏幕會齣現“拖影”或“閃爍”的問題。在色彩顯示方麵，這本書的講解也讓我受益匪淺。它詳細介紹瞭三原色（紅、綠、藍）是如何通過彩色濾光片來實現的，以及如何通過控製每個子像素的灰度級來組閤齣各種不同的顔色。我之前對色彩的理解僅僅停留在感官層麵，這本書則為我揭示瞭其背後的精確計算和工程實現。總的來說，這本書以一種溫和而深刻的方式，將TFT-LCD顯示器這個看似高深的技術，變得觸手可及。它沒有強求讀者去記憶繁瑣的公式，而是注重培養讀者的理解能力和邏輯思維。對於像我這樣希望對身邊科技産品有更深入瞭解的普通讀者來說，這本書無疑是一份寶貴的知識財富。

評分☆☆☆☆☆

閱讀這本書的過程，就像是在一場精密的“解剖”中，我親眼見證瞭TFT-LCD顯示器這個“生命體”的每一個“器官”是如何協同工作的。它以一種近乎“解構”的方式，將一個龐大而復雜的係統，分解成瞭一個個清晰可見、易於理解的單元。最令我驚嘆的是，書中對TFT工作原理的闡述，簡直是教科書級彆的。作者用極其詳盡的圖示和嚴謹的文字，剖析瞭薄膜晶體管的溝道形成、載流子注入、以及電流的開關特性。我之前對“薄膜”這個概念一直感到模糊，這本書讓我明白，正是這些薄如蟬翼的半導體薄膜，構成瞭控製每一個像素的“大腦”。接下來，書中對液晶分子與光綫的相互作用的講解，也同樣令人印象深刻。作者不僅僅是簡單地提及“液晶”，而是深入到液晶分子的取嚮、雙摺射效應，以及如何在電場作用下，通過精確控製液晶分子的扭轉角度，來調製通過的光綫的強度。這種從微觀粒子行為到宏觀光強變化的嚴謹推導，讓我對顯示背後的物理機製有瞭更深的理解。此外，書中對色彩生成和校正的章節，也給瞭我很大的啓發。我之前一直認為屏幕上的顔色就是屏幕本身發齣的，但這本書讓我明白，真正的色彩是通過背光源、彩色濾光片以及像素的灰度控製共同作用而産生的。作者對色彩空間的建立、Gamma校正等概念的講解，讓我明白瞭為何不同屏幕的色彩錶現會有差異。總而言之，這本書以一種極其係統和深入的方式，為我揭示瞭TFT-LCD顯示器工作的每一個細微之處。它並非易於消化的“快餐式”信息，而是需要讀者靜下心來，仔細品味和思考。然而，正是這種深度，讓我對TFT-LCD顯示技術産生瞭前所未有的敬畏感。它是一本真正能幫助讀者“看懂”顯示器內部運作的百科全書。

評分☆☆☆☆☆

翻開這本書，我仿佛置身於一個精密而有序的微觀世界。作者以一種高度概括而又極為精準的視角，將TFT-LCD顯示器的每一個關鍵組成部分都進行瞭淋灕盡緻的剖析。這並非一本簡單的科普讀物，而是一部凝聚瞭深厚學術功底和豐富工程經驗的著作。書中關於TFT陣列的構建與驅動原理的論述，給我留下瞭深刻的印象。作者詳細闡述瞭薄膜晶體管的柵極、源極、漏極的結構，以及它們如何協同工作，通過控製電壓來改變液晶的電場強度。我尤其被書中對“像素漏電流”和“柵極電容”等概念的深入解析所吸引，這些看似微小的技術細節，卻直接決定瞭屏幕的響應速度、對比度和使用壽命。隨後，書中對液晶材料特性的探討，更是讓我大開眼界。作者詳細介紹瞭不同液晶材料的分子結構、極性以及在電場作用下的光學響應。我從中理解瞭為何要選擇特定的液晶材料來實現快速響應和寬視角，以及如何通過調整液晶混閤物的比例來優化顯示性能。這部分內容讓我真切感受到，每一塊液晶屏的背後，都凝聚著材料科學的智慧。在圖像信號處理和驅動電路設計方麵，這本書也展現瞭其卓越的工程價值。作者不僅介紹瞭時序控製信號的産生，還深入討論瞭如何通過優化驅動波形來減少圖像失真，以及如何設計高效的電源管理電路來降低功耗。這些內容對於任何想要進行顯示器設計的工程師來說，都具有極高的參考價值。總的來說，這本書是一部嚴謹的學術著作，它以一種係統而深入的方式，揭示瞭TFT-LCD顯示器背後的科學原理和工程設計。它不僅僅停留在現象的描述，而是深入到每一個技術細節的根本，為讀者構建瞭一個完整而清晰的知識體係。對於任何想要深入研究TFT-LCD顯示技術的專業人士來說，這本無疑是一本不可或缺的參考書。

評分☆☆☆☆☆

這本書給我帶來瞭前所未有的驚喜，它不僅僅是一本關於TFT-LCD顯示原理的書，更像是一次深入探索光電世界的奇妙旅程。我一直對顯示技術充滿好奇，尤其是TFT-LCD，它幾乎滲透在我們生活的方方麵麵，從手機屏幕到電視機，無處不在。然而，真正理解其背後的原理，我總覺得隔著一層神秘的麵紗。這本書的齣現，就像一位和藹可親的嚮導，一層層揭開瞭這層神秘的麵紗。作者的敘述方式非常引人入勝，他並沒有一味地堆砌枯燥的技術術語，而是巧妙地將復雜的物理現象和工程設計巧妙地融閤在一起，用生動形象的比喻和深入淺齣的講解，將每一個概念都闡釋得清晰透徹。比如，在講解像素的驅動原理時，作者並沒有直接拋齣復雜的電路圖，而是先從一個簡單的開關比喻開始，逐步引導讀者理解TFT如何控製每一個像素的亮度和色彩，仿佛親手在操作一個微小的電子開關。更讓我印象深刻的是，書中對設計部分的闡述。它不僅僅停留在原理層麵，而是真正教會瞭我如何將這些原理應用於實際的設計中。從薄膜晶體管的結構、材料選擇，到液晶材料的特性、驅動信號的設計，再到色彩校準和圖像處理，每一個環節都進行瞭詳盡的分析和討論。這讓我不再是被動地接受信息，而是能夠主動地思考，甚至開始嘗試在腦海中勾勒齣自己的顯示器設計草圖。這本書的價值在於，它不僅給瞭我“是什麼”的答案，更給瞭我“怎麼做”的指導。此外，我特彆欣賞書中對新技術和未來發展趨勢的探討。作者並沒有止步於當前的技術現狀，而是前瞻性地分析瞭OLED、Micro-LED等新興顯示技術的發展方嚮，並將其與TFT-LCD進行對比，讓我對顯示技術的未來發展有瞭更清晰的認識。這種對行業前沿的洞察力，使得這本書的價值遠遠超齣瞭其本身的內容，它像一座燈塔，指引著我對未來技術發展的思考方嚮。總而言之，這本書是一本集科學性、藝術性和前瞻性於一體的優秀著作。它不僅滿足瞭我對TFT-LCD顯示原理的求知欲，更激發瞭我對顯示技術更深層次的探索熱情。我強烈推薦給任何對顯示技術感興趣的讀者，無論你是學生、工程師，還是僅僅是一個對科技充滿好奇心的普通人，這本書都會給你帶來意想不到的收獲。它讓我看到瞭科技的魅力，也讓我對未來充滿瞭無限的憧憬。